刻蚀设备业务： 5nm以下介质刻蚀机进入量产阶段，单台价值量提升30%。先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。

薄膜设备突破： 六种薄膜设备顺利进入市场，LPCVD设备毛利率超45%，成为第二增长曲线。EPI设备进入客户端量产验证阶段。

订单储备： 合同负债达30.67亿元，存货74.48亿元，同环比均大幅提升，印证订单高增长。

研发进展： 在研项目涵盖六大类、超过二十款新设备，研发周期显著缩短。

• 国产替代加速： 半导体设备国产化率提升，刻蚀设备在国内领先地位巩固
• 技术突破： 高端刻蚀设备和薄膜设备市场认可度提升
• 客户拓展： 长江存储等国内客户扩产加速，对三星、SK海力士出口量环比增长20%
• 政策支持： 政府补助较上年同期增加约0.43亿元

• 研发投入风险： 研发费用同比增长116.80%，占营收31.60%，需关注长期盈利能力
• 供应链风险： 美国可能升级对华半导体设备出口限制，影响关键零部件采购
• 客户集中： 前五大客户收入占比超60%，大客户扩产节奏调整可能影响业绩
• 存货周转： 存货较上年末增加4.09亿元，需关注周转效率

近一个月获得8份券商研报关注，均为买入评级，平均目标价210元（较当前价186.11元有12.84%上涨空间）。

关键看好因素：CCP与ICP刻蚀设备优势突出，薄膜设备获得重复性订单，平台化战略持续推进。

中微公司2025年一季度业绩符合高增长预期，核心业务刻蚀设备保持领先优势，薄膜设备商业化突破成为新增长点。建议关注：

1. 新产品研发进展及客户验证情况
2. 半导体行业政策动向及国产替代进程
3. 存货周转及现金流改善持续性

当前PE 47x低于同业北方华创(53x)，若业绩持续超预期，估值有修复空间。